Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique used in the mass production of microelectronics. In this book, novel nonvolatile memory devices are discussed. The chapters examine the low-temperature fabrication process of single-crystal platinum non-thin films using plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD). A comprehensive review of ALD surface coatings for battery systems is provided, as well as a theoretical calculation on the mechanism of thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition of Si O2; and fluorine doping behavior in Zn-based conducting oxide film grown by ALD.
€296.69
ซื้อ eBook เล่มนี้และรับฟรีอีก 1 เล่ม!
รูป PDF ● หน้า 183 ● ISBN 9781634839204 ● บรรณาธิการ Jeannie Valdez ● สำนักพิมพ์ Nova Science Publishers ● การตีพิมพ์ 2015 ● ที่สามารถดาวน์โหลดได้ 3 ครั้ง ● เงินตรา EUR ● ID 7226242 ● ป้องกันการคัดลอก Adobe DRM
ต้องใช้เครื่องอ่านหนังสืออิเล็กทรอนิกส์ที่มีความสามารถ DRM
หนังสืออิเล็กทรอนิกส์เพิ่มเติมจากผู้แต่งคนเดียวกัน / บรรณาธิการ
8,784 หนังสืออิเล็กทรอนิกส์ในหมวดหมู่นี้
