Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique used in the mass production of microelectronics. In this book, novel nonvolatile memory devices are discussed. The chapters examine the low-temperature fabrication process of single-crystal platinum non-thin films using plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD). A comprehensive review of ALD surface coatings for battery systems is provided, as well as a theoretical calculation on the mechanism of thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition of Si O2; and fluorine doping behavior in Zn-based conducting oxide film grown by ALD.
€293.25
Mua cuốn sách điện tử này và nhận thêm 1 cuốn MIỄN PHÍ!
định dạng PDF ● Trang 183 ● ISBN 9781634839204 ● Biên tập viên Jeannie Valdez ● Nhà xuất bản Nova Science Publishers ● Được phát hành 2015 ● Có thể tải xuống 3 lần ● Tiền tệ EUR ● TÔI 7226242 ● Sao chép bảo vệ Adobe DRM
Yêu cầu trình đọc ebook có khả năng DRM
Thêm sách điện tử từ cùng một tác giả / Biên tập viên
8.709 Ebooks trong thể loại này
