Predictive Simulation of Semiconductor Processing enables researchers and developers to extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basic mechanisms employed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool.
قم بشراء هذا الكتاب الإلكتروني واحصل على كتاب آخر مجانًا!
لغة الإنجليزية ● شكل PDF ● ISBN 9783662094327 ● محرر Jarek Dabrowski & Eicke R. Weber ● الناشر Springer Berlin Heidelberg ● نشرت 2013 ● للتحميل 3 مرات ● دقة EUR ● هوية شخصية 6343377 ● حماية النسخ Adobe DRM
يتطلب قارئ الكتاب الاليكتروني قادرة DRM