This book describes advanced epitaxial growth and self-aligned processing techniques for the fabrication of III-V semiconductor devices such as heterojunction bipolar transistors and high electron mobility transistors. It is the first book to describe the use of carbon-doping and low damage dry etching techniques that have proved indispensable in making reliable, high performance devices. These devices are used in many applications such as cordless telephones and high speed lightwave communication systems.
قم بشراء هذا الكتاب الإلكتروني واحصل على كتاب آخر مجانًا!
لغة الإنجليزية ● شكل PDF ● صفحات 560 ● ISBN 9789812831675 ● حجم الملف 258.8 MB ● الناشر World Scientific Publishing Company ● مدينة Singapore ● بلد SG ● نشرت 1996 ● للتحميل 24 الشهور ● دقة EUR ● هوية شخصية 2681671 ● حماية النسخ Adobe DRM
يتطلب قارئ الكتاب الاليكتروني قادرة DRM