This book describes advanced epitaxial growth and self-aligned processing techniques for the fabrication of III-V semiconductor devices such as heterojunction bipolar transistors and high electron mobility transistors. It is the first book to describe the use of carbon-doping and low damage dry etching techniques that have proved indispensable in making reliable, high performance devices. These devices are used in many applications such as cordless telephones and high speed lightwave communication systems.
Придбайте цю електронну книгу та отримайте ще 1 БЕЗКОШТОВНО!
Мова Англійська ● Формат PDF ● Сторінки 560 ● ISBN 9789812831675 ● Розмір файлу 258.8 MB ● Видавець World Scientific Publishing Company ● Місто Singapore ● Країна SG ● Опубліковано 1996 ● Завантажувані 24 місяців ● Валюта EUR ● Посвідчення особи 2681671 ● Захист від копіювання Adobe DRM
Потрібен читач електронних книг, що підтримує DRM