This book describes advanced epitaxial growth and self-aligned processing techniques for the fabrication of III-V semiconductor devices such as heterojunction bipolar transistors and high electron mobility transistors. It is the first book to describe the use of carbon-doping and low damage dry etching techniques that have proved indispensable in making reliable, high performance devices. These devices are used in many applications such as cordless telephones and high speed lightwave communication systems.
ซื้อ eBook เล่มนี้และรับฟรีอีก 1 เล่ม!
ภาษา อังกฤษ ● รูป PDF ● หน้า 560 ● ISBN 9789812831675 ● ขนาดไฟล์ 258.8 MB ● สำนักพิมพ์ World Scientific Publishing Company ● เมือง Singapore ● ประเทศ SG ● การตีพิมพ์ 1996 ● ที่สามารถดาวน์โหลดได้ 24 เดือน ● เงินตรา EUR ● ID 2681671 ● ป้องกันการคัดลอก Adobe DRM
ต้องใช้เครื่องอ่านหนังสืออิเล็กทรอนิกส์ที่มีความสามารถ DRM