This book describes advanced epitaxial growth and self-aligned processing techniques for the fabrication of III-V semiconductor devices such as heterojunction bipolar transistors and high electron mobility transistors. It is the first book to describe the use of carbon-doping and low damage dry etching techniques that have proved indispensable in making reliable, high performance devices. These devices are used in many applications such as cordless telephones and high speed lightwave communication systems.
Mua cuốn sách điện tử này và nhận thêm 1 cuốn MIỄN PHÍ!
Ngôn ngữ Anh ● định dạng PDF ● Trang 560 ● ISBN 9789812831675 ● Kích thước tập tin 258.8 MB ● Nhà xuất bản World Scientific Publishing Company ● Thành phố Singapore ● Quốc gia SG ● Được phát hành 1996 ● Có thể tải xuống 24 tháng ● Tiền tệ EUR ● TÔI 2681671 ● Sao chép bảo vệ Adobe DRM
Yêu cầu trình đọc ebook có khả năng DRM